A.G.E. STOP SWISS ALPINE GLOW PEELING SCRUB MASK

A.G.E. Stop Swiss Alpine Glow Peeling Scrub Mask — це маска-скраб 3 в 1 для комплексного відлущення, очищення та покращення сяйва шкіри. Формула поєднує фізичну, хімічну та ферментативну ексфоліацію, а також додатковий ефект rolling exfoliation — маска скочується під час легкого масажу, допомагаючи видалити поверхневі ороговілі клітини.

Основу формули складають мікрочастинки гідратованого кремнезему, молочна кислота та екстракт папаї, доповнені ніацинамідом, швейцарськими сніговими водоростями, екстрактом сніжного гриба та клітинами швейцарського едельвейсу. Засіб допомагає зробити шкіру більш гладкою, чистою та сяючою, а також сприяє кращому сприйняттю подальшого догляду.

Активні інгредієнти:

• Гідратований кремнезем — м'яко відлущує поверхневі ороговілі клітини та допомагає полірувати текстуру шкіри
• Молочна кислота — AHA-кислота, що сприяє м'якому хімічному відлущенню та гладкості шкіри
• Екстракт листя папаї — ферментативний компонент для делікатного відлущення та покращення сяйва шкіри
• Ніацинамід — допомагає підтримувати рівномірний тон, бар'єрні функції шкіри та контроль себуму
• Швейцарські снігові водорості — підтримують захисні властивості та доглянутий вигляд шкіри
• Екстракт сніжного гриба — зволожує, допомагає заспокоювати шкіру та підтримувати її комфорт
• Клітини швейцарського едельвейсу — рослинний компонент для комплексного антивікового догляду та підтримки захисного потенціалу шкіри
• Лінолева кислота — компонент ліпідного догляду, що підтримує комфорт і м'якість шкіри
• Гліцерин — допомагає утримувати вологу та підтримувати зволоженість шкіри
• Вітамін E — антиоксидантний компонент для підтримки шкіри від впливу вільних радикалів

Чому варто спробувати?

• Забезпечує комплексне відлущення шкіри
• Поєднує фізичну, хімічну та ферментативну ексфоліацію
• Допомагає видаляти поверхневі ороговілі клітини
• Вирівнює та полірує текстуру шкіри
• Покращує гладкість і м'якість шкіри
• Надає шкірі більш свіжого та сяючого вигляду
• Допомагає візуально покращити нерівномірність тону
• Підтримує оптимальний рівень зволоження
• Допомагає контролювати надлишкове виділення себуму
• Сприяє кращому нанесенню та сприйняттю подальших засобів догляду

Підходить для тьмяної, сухої, нерівної за текстурою шкіри, а для дуже чутливої шкіри передбачений більш м'який спосіб використання на вологому обличчі

• Стандартний спосіб: нанести маску на чисту суху шкіру обличчя та залишити на 10 хвилин
• Після 10 хвилин м'яко помасажувати шкіру круговими рухами, дозволяючи масці скочуватися разом із поверхневими ороговілими клітинами
• Видалити залишки засобу за допомогою вологої губки або ретельно змити водою
• Використовувати до 3 разів на тиждень залежно від потреб та чутливості шкіри
• Для дуже чутливої шкіри: нанести засіб масажними рухами на вологу шкіру, залишити на 10 хвилин та видалити вологою губкою без додаткового скочування
• Після процедури нанести зволожуючий або заспокійливий засіб для завершення догляду

INGREDIENTS-FORMULATED WITHOUT: PARABENS, SULFATES, PHTHALATES. INCI: AQUA (SWISS ALPINE WATER), ZEA MAYS STARCH ( CORN STARCH ), GLYCERYL STEARATE, STEARIC ACID, DECYL GLUCOSIDE, STEARETH-20, PROPANEDIOL, NIACINAMIDE, XANTHAN GUM, TREMELLA FUCIFORMIS ( SNOW MUSHROOM EXTRACT ), SODIUM CHLORIDE, LINOLEIC ACID, DISODIUM EDTA, CARICA PAPAYA LEAF EXTRACT, LACTIC ACID, GLYCERIN, TOCOPHERYL ACETATE ( VITAMIN E ), IODOPROPYNYL BUTYLCARBAMATE, HYDRATED SILICA, COENOCHLORIS SIGNIENSIS EXTRACT (SWISS SNOW ALGAE), MALTODEXTRIN, LEONTOPODIUM ALPINUM FLOWER/LEAF CELL CULTURE EXTRACT ( EDELWEISS STEM CELLS ), PARFUM (FRAGRANCE), LECITHIN, CITRIC ACID